DEMS 能检测的产物，边界是：气态或高挥发性、能透过疏水膜/毛细管进入质谱、且落在仪器质量数范围内。它特别适合在充放电、CV
扫描或恒电位过程中，实时捕捉 H₂、O₂、CO、CO₂、CH₄、C₂H₄、C₂H₆ 等低分子量气体，以及部分含氟、含硫、含氮的挥发性副产物。
1. 锂电/钠电体系中常测的气体
H₂(m/z 2)：来自痕量水还原、负极副反应、析氢反应，也常用于判断化成/循环中的水分或界面不稳定。
CO₂(m/z 44)：碳酸酯溶剂氧化分解、SEI/CEI 不稳定、正极晶格氧释放后诱发电解液分解的特征信号。
C₂H₄(m/z 26/27/28)：EC 还原分解形成 SEI 的典型产物，常用于判断负极成膜电位和 SEI 修复行为。
CO(m/z 28)：溶剂分解或 SEI 相关副反应产物，但需注意与 C₂H₄ 在 m/z 28 处存在重叠，需结合碎片峰或标准谱图区分。
CH₄、C₂H₆ 等低碳烃(m/z 16、30 等)：溶剂、添加剂或界面副反应可能产生，常用于辅助判断分解路径。
O₂(m/z 32)：富锂、高镍、高电压正极的晶格氧释放，也用于锂氧电池中 O₂ 消耗/生成的可逆性评价。
含氟挥发性产物：如 HF、SiF₄、POF₃ 等，可能与 LiPF₆ 水解、HF
腐蚀隔膜/正极有关;但这类物种检测难度较高，需要确认仪器质量范围、膜兼容性和抗污染配置。
2. 电催化体系中可测的典型产物
HER：H₂。
OER：O₂，必要时结合 ¹⁸O 同位素区分晶格氧与溶剂氧。
CO₂RR：CO、CH₄、C₂H₄、C₂H₆ 等。
NRR：NH₃ 可被追踪，但灵敏度、背景氨干扰和定量方式需要单独验证。
其他挥发性有机物：如甲醇、甲酸等小分子挥发性有机物在部分 DEMS/MIMS 系统中可测，但受质量数上限和挥发性限制。
3. 不能或不易直接检测的对象
非挥发性液体产物：如大部分碳酸酯溶剂本体、低挥发添加剂、聚合物分解产物，通常不能直接通过膜进样检测。
大分子有机物：超出质量数范围或挥发性不足的物种不适合 DEMS。
固体产物：SEI、CEI、金属沉积、晶相变化不能由 DEMS 直接观察，需要配合 XPS、FTIR、XRD、SEM 等。
m/z 重叠物种：例如 CO 与 C₂H₄ 都在 m/z 28 附近有信号，必须通过多碎片峰、标准气校准或联用方法确认。
4. 检测能力与报告要点
常规 DEMS 质量数范围常见为 1–100、1–200 或 1–300 amu，灵敏度可达 ppm 甚至 ppb
级，适合做原位、实时、半定量/定量分析。报告里建议写明：进样方式(膜进样/毛细管/顶空)、载气、冷阱配置、质量数范围、校准气体、m/z
分配、是否做了碎片峰去卷积、定量方式以及检测限。